28纳米光刻机难造吗？
28纳米光刻机是种高精度、高技术含量的造设备，需要具备非常复杂的工艺和造过程，因此难度较大。首先，28纳米尺寸的芯片需要更加准确的光刻技术来造。这就要求光刻机必须有很高的分辨率和稳定性，能够控每个像素点的位置和大。同时，相较于20纳米及以上尺寸，28纳米尺寸对亮度、对比度等方面也有更高的要求。
其次，28纳米光刻机需要使用更先进的技术和材料来保持造精度。例如，要使用特别的光学材料和抗反射涂层来保证镜头透过率和抗反射性。此外，还需要使用更加精密的控系统以及更强大的计算能力来实现高速、精准、连续不断地刻画芯片图形。
综上所述，造28纳米光刻机确实是项非常挑战性的任务，需要几十年来累积下来的经验和技术才能够完成。
相关知识:自己做光刻机难吗？
自己造个光刻机是非常困难的任务。光刻机是种精密的设备，用于造微电子器件和集成电路。它涉及到许工程领域的知识，包括物理、光学、机械、电子等。造个能齐全的光刻机需要具备高度专业的技能和经验。除了技术方面的挑战外，还需要大量的时间和资源来完成设计、造和测试。
此外，造光刻机还需要高精度的零部件、专业的工具和设备，以及造过程中的测试和校准等。这些材料和设备通常需要特殊的供应渠和专业的造商才能获得。因此，对于大数来说，自己造个光刻机是几乎不可能的任务。般情况下，只有专业的研究机构、大型工业司或设备造商才拥有足够的资源和技术能力来造光刻机。
相关知识:中国为什么造不出光刻机？
2002年SMEE成立，是府为了填补光刻机空白而立项。上海微电子装备司总经理荣明去德国考察时，有工程师告诉他：“给们图纸，也不出来。”荣明几年后理解了这句话。光刻机，被称为现光学工业之，其造难度之大，全世界只有少数几司能够造。用于生产芯片的光刻机是在半导体设备造上的短板，晶圆厂所需的高端光刻机依赖进口。
随着美国裁华为事件，光刻机走进们的视野，别的不说，下面简单说个逻辑，相信大就都能明白了。荷兰ASML司是为积电提供光刻机的垄断供货厂商，中芯想买ASML司的光刻机却买不到，积电与中芯为合作竞争对关系，而它们均为华为供货。曾经有业内士称，毫不夸张地说，光刻机的造难度甚至不亚于。光刻机有难造？全世界可以造光刻机的厂商寥寥可数。
相关知识:EUV光刻机难还是原子弹难？
们西北角的某斯坦朋、东北角的某半岛朋，以及中东的某朗，会毫不犹豫回答：肯定比EUV光刻机容易造啊，要不是5常压着，现在拥核的数量至少会再翻番，EUV光刻机能够随便造，但能造出的也就是荷兰ASML，还是和美国凑份子的结果。对此看，美国、欧洲英德、日本和韩国深表赞同，并纷纷点赞。为何？因为它们都曾是EUV光刻机设计造大赛选，它们都深知EUV光刻机的复杂性，而且复杂得令难以置信：在克EUV技术的路上，坑个接着个。
光源问题是第个大坑，主要表现为：EUV光线特别容易被吸收，输出EUV的能量转换效率低、率提难度大，每个坑都不容易填，掉进去很难爬出来。在EUV光刻机机中，光源要将等离子体转换成波长13.5nm的光，然后这些光会在种包含10个层镜面的复杂配置方案中反射（反射示意图见上图中的图4）。
